半導體元器件燒結爐 高溫管式爐主要適用于粉料、顆粒的燒結，并分成動態與靜態燒結二大系列，動態燒結使 物料受熱更均勻、燒結時間縮短等優勢。

高溫氣氛爐 氧化銅燒結回轉爐，主要適用于粉料、顆粒的動態燒結使物料受熱更均勻、燒結時間縮短、能耗降低、品質高等優點。

雙溫區管式爐 直管間歇式回轉爐的設計結合了動態燒結與氣氛保護兩大優勢，有效提升了受熱均勻性，縮短了燒結周期，降低了單位能耗，實現產品一致性高、活性好、品質優良的生產目標。是新材料規模化生產的合理選擇。

氣氛管式爐 管式真空爐的爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。可分為單溫區、雙溫區、三溫區等多種管式爐型。

催化劑焙燒爐 活性炭回轉爐獨特的回轉設計確保了物料受熱均勻、反應充分，是制備一致性要求較高的鋰電材料、磁性材料、陶瓷粉體等的關鍵設備。